耐腐蚀泵就选创升成为世界一流的耐腐蚀化工泵百年幸福企业
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在摩尔定律不断逼近物理极限的今天，芯片制造不仅仅是光刻的艺术，更是对流体纯净度的极致考验。制程节点从 14nm 向 3nm 迈进，哪怕是纳米级的微粒或 PPT 级别的金属杂质，都足以摧毁整片晶圆的良率。
在芯片制造的数百道工序中，清洗、刻蚀、剥离等湿法工艺占据了 30% 以上的步骤。流体输送系统的稳定性与纯净度，直接决定了芯片的最终性能。
在纳米级制程中，任何杂质都是灾难。半导体湿制程正面临以下严峻挑战：
普通的氟塑料泵可能析出微量金属离子（如铁、钠、钾），导致晶圆电性失效，造成整批报废。
泵浦运转摩擦产生的微颗粒，是造成晶圆表面缺陷的元凶，需严格控制。
HF、H2SO4、BOE等化学品具有致命危险，任何微小的机械轴封泄漏都是不可接受的。
泵浦的脉动和剪切会导致微气泡产生，影响光刻胶涂布或显影环节的涂层均匀性。
创升提供全套高纯流体解决方案，为良率保驾护航。
| 核心制程 | 应用描述 | 推荐泵型 |
|---|---|---|
| RCA 清洗 | 输送 SC-1, SC-2, H2SO4/H2O2 等高温强腐蚀清洗液，去除晶圆表面杂质。 | TMM 衬氟磁力泵 (高温型) |
| 湿法刻蚀 | 精准循环 HF, BOE, H3PO4 等刻蚀药液，要求流量绝对稳定，无脉动。 | 变频磁力泵 (精密型) |
| 化学机械研磨 | 输送研磨浆料，要求低剪切力，防止浆料结块沉淀。 | 耐腐蚀磁力泵 |
| CDS 供液系统 | 从大桶到机台的高纯化学品集中输送。 | 大流量 PFA 磁力泵 |
| 电镀 | 铜互连电镀液循环，要求无油、无金属离子污染。 | 高纯磁力泵 |
硬核按照国际标准设计品质，重塑半导体供应链效率
我们拒绝降级替代。创升半导体系列泵浦在流量、扬程、离子析出率等核心指标上，完全对标国际一线品牌。
相比市场品牌动辄 3-4 个月的交货周期，创升依托本土化制造与强大的供应链整合能力，实现极速交付。
在保证性能一致的前提下，创升为您提供极具竞争力的成本优势，助力晶圆厂降本增效。
